高能离子注入机系列

iStellar-HE2000
高能离子注入机，单价能量500KeV,覆盖28nm/22nm等先进工艺节点，高可靠性、低成本，适用于IC集成电路中逻辑、存储、功率器件应用；

iKing HE/UHE
超高能离子注入机，单价能量1.5MeV/2.5MeV,应用于逻辑与存储芯片、功率器件等，配置不同能量，满足客户不同需求，具备高效可靠、高精度注入控制、高束流均匀性、低金属污染和低颗粒物污染等特点。

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