宽幅离子源与光路系统
超高真空、颗粒污染少化工艺腔体
各向同性精准注入扫描装置
自主知识产权保护
宽幅离子源与光路系统 超高真空、颗粒污染少化工艺腔体 各向同性精准注入扫描装置 自主知识产权保护
凯世通光伏离子注入机已开发出四代系列产品。 Ion Solar™, 第一代光伏离子注入设备（2011~2014）具有质量分析，采用金属托盘传送，能量5-15KeV, 均匀性2/ma 产能800-1500WPH。 iPV-2000第二代光伏离子注入设备（2014~2017)略去质量分析，采用皮带水平传送硅片，避免硅片在载盘传送中的摩擦损伤。采用固态磷代替磷烷，降低客户成本，能量5
iPV3000 第三代光伏离子注入设备（2017-）维持皮带水平传送硅片和固态磷离子源改进的大束流离子源，束流提升40%增加图案化注入掺杂功能产能3000WPH。iSolar iPV3000特点:高产能、低成本高密度束流系统，束流密度>4.0mA/cm，实现设备产能3000WPH。采用固态磷作为掺杂源，掺杂成本0.3分/片(RMB)。兼容性强传送方式简单。无需修改任何硬件，完全兼容不同
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